赫章機械密封包括壓力控制、溫度控制、流體替換(堵塞)和雜質去除系統。在赫章機械密封系統中，上述系統并不同時包括在內。密封系統的選擇主要取決于主密封件的應用范圍。例如，如果主密封用于高溫液體，密封系統應確保降低主密封的環境溫度，即采用溫度控制系統。如果主密封用于固體雜質含量高的工作介質，密封系統應確保在主密封前降低固體雜質含量，即采用除雜系統。在腐蝕性介質中，密封系統必須確保主密封降低腐蝕速率或消除腐蝕，即使用流體而不是堵塞流體系統；在高壓密封裝置中，輔助系統應確保多級降壓和其他措施，即壓力控制系統。

　　赫章機械密封的三個主要功能如下：

　　1、沖洗功能，沖洗是赫章機械密封基本的功能，它直接將液體注入單面密封或雙面密封的高壓側。一般的赫章機械密封應該沖洗，特別是對于輕烴泵，沖洗時達到隔離介質、冷卻和改善潤滑的目的。隔離介質的目的可以通過將與介質相容的液體引入密封腔進行外部循環沖洗來實現。

　　2、除雜和過濾功能，密封流體中的微細固體粒子、污垢等雜質對赫章機械密封造成的危害非常嚴重，可能導致密封端面的磨損，也可能堵塞寒冷密封系統的管線。密封性系統軟件具有去除殘渣、保持液體清潔的作用。當殘渣的相對密度小于液體媒質相對密度時，能用過濾裝置去除殘渣；而當殘渣的相對密度超過液體媒質相對密度時，可選用旋液分離設備或網式過濾器去除殘渣。

　　3、流體替代功能，含有固體顆粒的氣相介質和液相介質的直接密封難度很大，它們溫、毒、貴、易蒸發、易結晶。借助赫章機械密封可以用雙端赫章機械密封代替密封介質，將難以直接密封的介質轉化為密封潤滑性能好、清潔的密封液體介質。